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    项目介绍

    mPCD用来测试硅片的有效少子寿命; cPCD用来测试样品的体少子寿命。

    微波光电导衰退法Microwave photoconductivity decay)测试少子寿命,主要包括激光注入产生电子-空穴对和微波探测信号的变化这两个过程。

    904mm 的激光注入(对于硅,注入深度大约为30um )产生电子-空穴对,导致样品电导率的增加,当撤去外界光注入时,电导率随时间指数衰减,

    这一趋势间接反映少数载流子的衰减趋势,从而通过微波探测电导率随时间变化的趋势就可以得到少数载流子的寿命。



    样品要求

    1)mPCD所能测试的样品,从 8英寸到一般切割的小样品(1cm×1cm)都可以。一般机械抛光,化学抛光或研磨面的样品都可以测试,但样品必须是轻掺,重掺(电阻率小于0.1Ωcm)和重掺衬底的外延片都不行。

    (2)CPCD所能测试的样品限于3,4,6,8英寸。一般硅片表面要形成自然氧化层或生长一层带电荷的薄膜。

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