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聚焦离子束（FIB）

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项目介绍

聚焦离子束（focused ion beam, FIB）技术是在电场和磁场的作用下，将离子束聚焦到亚微米甚至纳米量级，通过偏转和加速系统控制离子束扫描运动，实现微纳图形的监测分析和微纳结构的无掩模加工。

可提供的服务：

1. TEM透射样品制备：针对表面薄膜、涂层、粉末大颗粒、块体等样品，在指定位置准确定位切割制备TEM样品；

2. SEM/EDS剖面分析：FIB准确定位切割，制备截面样品，进行SEM和EDS能谱分析；

3. 微纳结构加工：在微纳结构操作机械手、Omniprobe操作探针、离子束切割等的配合下，进行各种微纳结构的搬运，以及各种显微结构形状或图案的加工。

样品要求

1. 粉末样品：样品尺寸至少为5μm以上，且无磁性；

2. 薄膜/块体样品：最大尺寸不超过2cm，高度不超过3mm，可以有磁性，但强磁样品应尽可能减小尺寸；

3. 在送样前，请通过扫描电子显微镜（SEM）确认样品满足FIB制样的要求；

4. 按照样品个数计费，加工成品大小一般不超过长度 5μm*深度 5μm；如果样品需要加工更大尺寸，请在下单前联系技术经理进行评估和议价；

5. 样品应具有良好的导电性，如果导电性比较差，需要进行喷金或喷碳处理。

项目案列

TEM制备多相和薄膜的TEM样品

电池正极材料的FIB截面的SEM及能谱表征

FIB加工测试狗logo

FIB三维重构图像

常见问题

FIB可以做什么？

（1）FIB-SEM：FIB制备微纳米级样品截面，进行SEM和能谱测试。感兴趣区域尺度要求200nm-30μm，通常切样面宽度不超过10μm。

（2）FIB-TEM：FIB制备满足透射电镜的 TEM截面样品。样品包括：薄膜、块体样品，微米级颗粒。样品种类：陶瓷、金属等。

FIB制样可能引入的杂质？

W、C、Pt和Ga，其中W、C和Pt是为了保护减薄区域，Ga是离子源。如果样品不导电可能喷Au或者喷Pt，从而引入这两种元素。

FIB样品为什么需要导电？

样品是在SEM电镜下进行操作，需要清晰地观察到样品的形貌，否则无法精准制样。

FIB-TEM的制样流程是 ?

(1）找到目标位置（定位非常重要），表面喷Pt、W或C进行保护目标区域；

(2）将目标位置前后两侧的样品挖空，剩下目标区域后进行U-cut；

(3）通过纳米机械手将这个薄片取出，将样品焊到铜网上的样品柱上；

(4）减薄到理想厚度后停止。

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